類金剛石涂層使電子顯微鏡拍到更清晰的圖像
一項最新的研究表明：類金剛石涂層技術將使電子顯微鏡（數(shù)碼顯微鏡）可拍攝到更加清晰的圖像。
美國SLAC國家加速器實驗室和斯坦福大學聯(lián)合領導的一項研究表明，類金剛石晶體材料的單層涂層的表面將極大地提高電子顯微鏡（數(shù)碼顯微鏡）的拍攝圖像質量。該研究結果已經(jīng)發(fā)表在《應用物理快報》上（這是第一次發(fā)表證明金剛石涂層可以直接提高PEEM成像的論文。斯坦福大學材料和能源科學研究所（SIMES）研究人員表示）。
科學家利用類金剛石涂料應用在近3倍的電子發(fā)射顯微鏡（PEEM）上，獲得的圖像質量得到了明顯的改善，電子發(fā)射顯微鏡可以觀察到樣品的表面結構，化學鍵，和磁學性質等重要方面。
電子發(fā)射顯微鏡是通過紫外線或X-射線光來成像，但高透視使得觸發(fā)能量范圍廣泛的電子能量，限制了圖像分辨率的排放量。在加上類金剛石晶體材料的單層涂層后，獲得圖像質量明顯得到改善。
而美國勞倫斯伯克利國家實驗室在試驗中，添加鉆石晶體的單層的鈷鉑磁性合金的表面也使得顯微鏡圖像的大小從25納米至10納米的分辨率 實現(xiàn)最小可感知的細節(jié)。
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